Hitachi日立高新離子研磨系統ArBlade5000能夠實現高產量，并制備廣域橫截面樣品。 離子研磨系統使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表面。樣品預處理系統可以用于電子和先進材料等各個領域的研發和質量控制等。

Hitachi日立高新離子研磨裝置（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！ 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置： 斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結構高分辨成像。 平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇

Hitachi日立高新磁控濺射器MC1000（Hitachi Ion Sputter ）采用了電磁管電極，能夠大限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。